型號(hào)

HYQX-I

HYQX-II

HYQX-III

HYQX-III-Z

HYQX-III-T

HYQX-III-TD

HYQX-III-TZ

培養(yǎng)室溫度范圍

RT+3°C~60°C

10°C~60°C

RT+3°C~60°C

10°C~60°C

溫度均勻度

≤±1°C

溫度波動(dòng)度

≤±0.3°C

≤±0.5°C

厭氧等級(jí)

操作室含氧量≤1%

操作室含氧量≤0.5%

操作室含氧量≤0.1%（未使用鈀催化劑）

取樣室形成厭氧狀態(tài)時(shí)間

≤5分鐘

≤15分鐘

取樣室形成厭氧（微需氧）方式

真空+氣體置換式（99.99%氮?dú)饣驓錃?span lang="EN-US">5%二氧化碳10%氮?dú)?span lang="EN-US">85%組成的混合氣）
真空+氣體置換式（99.99%氮?dú)饣蜓鯕?span lang="EN-US">5%二氧化碳10%氮?dú)?span lang="EN-US">85%組成的混合氣）

取樣室形成厭氧操作方式

手動(dòng)按鍵切換

一鍵自動(dòng)執(zhí)行

操作室形成厭氧狀態(tài)時(shí)間

≤1小時(shí)

≤2小時(shí)

≤1.5小時(shí)操作室含氧量≤0.3%

操作室形成厭氧（微需氧）方式

真空+氣體置換式（99.99%氮?dú)饣驓錃?span lang="EN-US">5%二氧化碳10%氮?dú)?span lang="EN-US">85%組成的混合氣）
真空+氣體置換式（99.99%氮?dú)饣蜓鯕?span lang="EN-US">5%二氧化碳10%氮?dú)?span lang="EN-US">85%組成的混合氣）

氣體置換式（99.99%氮?dú)饣驓錃?/span>5%二氧化碳10%氮?dú)?/span>85%組成的混合氣）+微流量控制

操作室厭氧環(huán)境維持時(shí)間

在停止補(bǔ)充微量混合氣體的情況下＞12小時(shí)

操作室形成厭氧操作方式

手動(dòng)按鍵切換

手動(dòng)按鍵切換

一鍵自動(dòng)執(zhí)行

培養(yǎng)室內(nèi)部尺寸(cm)

25×19.4×28.5

42×29×47.5

操作室兼培養(yǎng)室

42×29×47.5

操作室兼培養(yǎng)室

培養(yǎng)箱內(nèi)部容積(L)

13

57

操作室兼培養(yǎng)室339

57

操作室兼培養(yǎng)室339

取樣室尺寸(cm)

33×23×32

40×33×32

操作室尺寸(cm)

81.4×66.4×66.8

94.4×67×74.4

85.2×56.9×70

94.4×67×74.4

85.2×56.9×70

外部尺寸(cm)

120×73×137

140×68.8×141.8

TS：140×68.8×141.8
TSD：140×68.8×75

140×68.8×141.8

溫度控制器

LED數(shù)碼管顯示P.I.D.溫度控制器

LCD液晶屏顯示P.I.D.溫度控制器

7寸彩色觸摸屏P.I.D.溫度控制器

擱板

2

2

2

2

2

2

功率（W）

600

600

730

1000

1500

2300

電源

1Ø 220V 50Hz

備注

※I/II型外部高度（H）含16.5cm配件，III型（除III-TSD外）外部高度（H）含8cm配件